突破位密度。提高了节能效果。增强的性能。美光凭借世界上最先进的 DRAM 工艺技术展示了其在市场上的领先地位：1α 节点。
开创性技术
在 1α 尺度上，物理学使传统的光刻技术几乎不可能。为了实现行业领先的节点进步，美光开创了一种纳米制造工艺，该工艺结合了计算光刻和多重图案化，以规避固有的光刻限制并提供世界上第一个 1α 节点。
提高内存密度
与我们的上一代技术相比，美光领先的 1α DRAM 显着提高了内存密度，提供了为需要大量数据的应用程序提供数据的能力，并提高了从移动设备和智能汽车到数据中心、工业边缘等所有领域的性能。
提高能源效率
美光的 1α DRAM 技术可实现业界最低功耗的移动 DRAM，并为需要一流 LPDRAM 性能的移动平台提供更快的 LPDDR5 运行速度。
Thy Tran on Micron 的 1α 工艺技术
建造大而可识别的东西是一回事，比如汽车或房子。建造如此小的东西，以至于数十亿可以容纳在指甲大小的区域中，这完全是另一回事。后一种工艺称为纳米制造，是美光制造存储芯片的方式——2020 年，我们推出了世界上最先进的纳米制造技术，称为 1α (1-alpha)。观看美光 DRAM 工艺集成副总裁 Thy Tran 解释是什么让我们的新 1α DRAM 工艺技术真正令人惊叹，以及她和她的全球美光团队如何在创纪录的时间内将 1α 从概念转变为大批量制造。
Inside 1α——世界上最先进的DRAM工艺技术
2021 年初，美光宣布批量出货使用世界上最先进的 DRAM 工艺技术制造的存储芯片。这种被称为 1α 的制造技术在位密度、能源效率和性能方面提供了显着的改进。阅读这篇文章，了解什么是 1α，以及为什么它代表了纳米制造技术的重大飞跃。